卓力達公司長期供應(yīng)高精度不銹鋼掩膜板制作產(chǎn)品，不銹鋼掩膜板，價格實惠，量大從優(yōu)。

不銹鋼掩膜板產(chǎn)品可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等設(shè)備中，用來制備太陽能電池，光電探測器，LED，激光器，場效應(yīng)晶體管等各種器件電極及各種薄膜材料圖形設(shè)計。
我們已與眾多如：北京大學(xué)，清華大學(xué)，中科院蘇州納米所，中科院深圳先進院，蘭州物化的，合肥物質(zhì)所，武漢大學(xué)，華中科技大學(xué)，中科院昆明植物研究所，北京航空航天大學(xué)，山東大學(xué)，浙江大學(xué)，吉林大學(xué)，華南理工，中山大學(xué)，東南大學(xué)，蘇州大學(xué)，太原理工大學(xué)等國內(nèi)眾多的高校和科研院所以及高技術(shù)企業(yè)形成了長期合作關(guān)系，積累了豐富的設(shè)計和制備經(jīng)驗，具備諸多優(yōu)勢。
卓力達公司的不銹鋼掩膜板制備工藝主要采用曝光腐蝕工藝（與光刻法在硅表面制備高精度的圖案類似），這種方法可以根據(jù)客戶要求靈活設(shè)計各種圖案，且制備出來的圖案尺寸標準。我們的圖案尺寸精度可以達到0.01mm以上，邊緣銳利無毛刺，開孔直線度好，真圓度好。

在材質(zhì)的選取方面，我們選用高韌性的SUS304 H不銹鋼材料，這樣做出來的掩模板不但精度高，而且表面光滑，產(chǎn)品不易受彎折而變形，經(jīng)久耐用，同時還能夠讓掩模板與器件保持很緊密的貼合，減少陰影效果。
我們所采用的不銹鋼厚度包括0.03mm,0.05mm,0.06mm,0.08mm到1 mm的各種尺寸，采用較薄的不銹鋼制備出來的掩模板所產(chǎn)生的陰影效果會更少,擾度更可控。
本公司承接各種圖案定制，客戶最好能提供包含尺寸的CAD版設(shè)計圖。如果畫圖實在有困難，我們可以根據(jù)客戶描述來繪制，同時我們還能對客戶的掩模板設(shè)計提供一些建議。

下面先舉幾個不銹鋼掩膜板的實例，后面再解釋幾個不銹鋼掩膜板設(shè)計技巧

如果客戶自己的設(shè)備有較好的樣品架，可以只考慮做一片上面所示的單片不銹鋼掩膜板就行。如果沒有較好的固定器件的方案，建議采用我們的疊層設(shè)計法。下面以0.1mm的柵狀電極為例進行詳細說明。

   如圖所示，客戶可以設(shè)計四種不銹鋼片，其中右下角的為帶電極圖案的掩膜板。右上角為固定器件的方格板，我們將方格板用螺絲固定到掩膜板上面就可以防止電池片的左右移動。

方格板的厚度可以根據(jù)器件的厚度來定制，如圖中所示的方格板就是可以放入厚度為0.5mm，邊長為1*1cm的電池片共16片。客戶還可以一次性設(shè)計幾個不同厚度的方格板，這樣自己就可以通過將不同厚度的方格板疊合在一起形成任意組合的厚度，以便于用于不同厚度器件的電極蒸鍍。

在IC加工過程中，需要使用中間掩膜板和光掩膜板。我們定義中間掩膜板是為整個基片曝光而必須分步和重復(fù)的包含圖像的工具。通常圖像的尺寸被放大到基片上圖像的2倍到20倍，但在一些情況下也用相等的圖像。光掩膜板被定義為在一次曝光中能把圖形轉(zhuǎn)移到整個硅片中（或另一張光掩模版上）的工具。

中間掩膜板有兩種應(yīng)用：1）把圖形復(fù)印到工作掩膜板上。2）在分步重復(fù)對準儀中把圖像直接轉(zhuǎn)移到硅片上。在1X硅片步進光刻機中，掩膜板上的圖形與投影到硅片上圖形一樣大；在縮小步進光刻機中，掩模版上的圖形是放大的真實器件圖像。
     在VLSI中，電子束曝光10X或5X的掩膜板，或直接用電子束產(chǎn)生1X 的工作掩
模版

返回首頁

下一篇：掩膜版制作過程上一篇：光學(xué)編碼器